PVD真空鍍膜原理是什么

目前常用的PVD有三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍；它們的工作原理如下：1、真鍍空膜：是在適當的壓強下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發，蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層。2、濺射鍍膜：是不采用蒸發技術的物理氣相沉積方法，施鍍時，將工作室抽成真空，沖入氬氣做為工作氣體，并保持其壓力為0.13至1、33帕。3、離子鍍：是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。

推薦度：

點擊下載本文 文檔為doc格式

導讀目前常用的PVD有三種：真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍；它們的工作原理如下：1、真鍍空膜：是在適當的壓強下用電子束等熱源加熱材料使之蒸發，蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層。2、濺射鍍膜：是不采用蒸發技術的物理氣相沉積方法，施鍍時，將工作室抽成真空，沖入氬氣做為工作氣體，并保持其壓力為0.13至1、33帕。3、離子鍍：是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。