飽和電流只與入射光的強度有關，與外加電壓無任何關系，我們也從不強調飽和電流與入射光頻率的關系。我們只在談遏止電壓與截止頻率時才談頻率問題，入射光越強，單位時間內發射的光電子數越多。

當入射光頻率不變時，飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單，入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。光子數的變化導致單位時間內吸收光子的電子數變化，故飛出的光電子數變化，導致電流的變化。

當入射光強度不變時，飽和光電流隨入射光頻率的增大而增大。這個理解起來比較難。可以這么想:光強不變，單位時間內有10個光子被電子吸收，吸收后所形成的10個光電子并不是全部從金屬表面飛出。靠近金屬表面的電子受到金屬內原子核的束縛比較弱，故很容易飛出，但內部的就不一定，所以，這10個電子可能只有6個能飛出金屬形成光電流。如果在入射光強度不變的情況下增大入射光的頻率，雖然還是有10個光子被10個電子吸收形成光電子，但這10個光電子的能量比較大，所以，能夠脫離金屬內原子核束縛的能力比較強。這樣，可能就會有8個電子能飛出金屬形成光電流，這樣的話，很顯然飽和光電流會增大。